技術(shù)編號(hào)：4176724
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。使用化學(xué)氣相沉積形成的氣體儲(chǔ)存容器襯里 相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用本申請(qǐng)要求美國臨時(shí)申請(qǐng)60/740,399的優(yōu)先權(quán)，該臨時(shí)申請(qǐng)?jiān)?005 年11月28日提交，并且題目為"使用化學(xué)氣相沉積形成的氣體儲(chǔ)存容器 襯里(Gas Storage Container Linings Formed With Chemical Vapor Deposition)",該申請(qǐng)的全部內(nèi)容是為了所有目的而通過引用結(jié)合在此的。背景技術(shù)計(jì)算機(jī)和電子設(shè)備制造商越來越需要用于半導(dǎo)體芯片制造的純...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。