技術(shù)編號(hào)：40449822
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造，尤其涉及一種版圖局部圖形特征的分析方法、存儲(chǔ)介質(zhì)及終端。背景技術(shù)、在半導(dǎo)體制造中，版圖是圖形轉(zhuǎn)移的關(guān)鍵介質(zhì)。版圖中存放著集成電路的實(shí)際圖形，有無規(guī)律的連線，堆疊的晶體管，也有重復(fù)單元塊sram等。在獲取一個(gè)版圖后，對(duì)其進(jìn)行分析可得到版圖更高維度的理解。也可以根據(jù)分析得到版圖特征，對(duì)具有不同特性的版圖進(jìn)行針對(duì)性的修改，加快工藝開發(fā)流程。、然而，現(xiàn)有技術(shù)中在對(duì)版圖進(jìn)行特征分析的過程中仍存在諸多問題。技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路、本發(fā)明解決的技術(shù)問題是提供一種版圖局部圖形特征的分析方法、存...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。
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