本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造，尤其涉及一種版圖局部圖形特征的分析方法、存儲(chǔ)介質(zhì)及終端。

背景技術(shù)：

1、在半導(dǎo)體制造中，版圖是圖形轉(zhuǎn)移的關(guān)鍵介質(zhì)。版圖中存放著集成電路的實(shí)際圖形，有無(wú)規(guī)律的連線，堆疊的晶體管，也有重復(fù)單元塊sram等。在獲取一個(gè)版圖后，對(duì)其進(jìn)行分析可得到版圖更高維度的理解。也可以根據(jù)分析得到版圖特征，對(duì)具有不同特性的版圖進(jìn)行針對(duì)性的修改，加快工藝開(kāi)發(fā)流程。

2、然而，現(xiàn)有技術(shù)中在對(duì)版圖進(jìn)行特征分析的過(guò)程中仍存在諸多問(wèn)題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種版圖局部圖形特征的分析方法、存儲(chǔ)介質(zhì)及終端，以提升對(duì)版圖的局部圖形特征分析的效率。

2、為解決上述問(wèn)題，本發(fā)明提供一種版圖局部圖形特征的分析方法，包括：提供待檢測(cè)版圖，所述待檢測(cè)版圖中具有若干待檢測(cè)圖形；在所述待檢測(cè)版圖中獲取局部分析區(qū)域，位于所述局部分析區(qū)域內(nèi)的所述待檢測(cè)圖形為目標(biāo)圖形；對(duì)所述局部分析區(qū)域內(nèi)的若干所述目標(biāo)圖形進(jìn)行不同類型的特征分析，并輸出每種類型的特征分析結(jié)果。

3、可選的，在所述待檢測(cè)版圖中獲取局部分析區(qū)域的方法包括：獲取定位點(diǎn)；基于所述定位點(diǎn)建立截取窗口；將所述截取窗口截取的區(qū)域作為所述局部分析區(qū)域。

4、可選的，所述截取窗口為矩形。

5、可選的，基于所述定位點(diǎn)建立所述截取窗口的方法包括：獲取沿第一方向的第一截取尺寸；獲取沿第二方向的第二截取尺寸，所述第一方向與所述第二方向垂直；基于所述第一截取尺寸、所述第二截取尺寸和所述定位點(diǎn)建立所述截取窗口；其中，所述定位點(diǎn)為所述截取窗口的中心點(diǎn)，所述第一截取尺寸為所述定位點(diǎn)沿所述第一方向距離所述截取窗口邊長(zhǎng)的間距尺寸，所述第二截取尺寸為所述定位點(diǎn)沿所述第二方向距離所述截取窗口邊長(zhǎng)的間距尺寸。

6、可選的，所述待檢測(cè)版圖包括：由不同層級(jí)版圖經(jīng)過(guò)打平后的單層版圖，或者由不同層版圖經(jīng)過(guò)合并后的多層版圖。

7、可選的，不同類型的特征分析包括：幾何特征分析和環(huán)境特征分析。

8、可選的，所述幾何特征包括：所述目標(biāo)圖形的形狀、所述目標(biāo)圖形的特征尺寸、以及相鄰所述目標(biāo)圖形之間的間距尺寸。

9、可選的，所述環(huán)境特征分析包括：所述局部分析區(qū)域內(nèi)的若干所述目標(biāo)圖形是否為重復(fù)圖形、所述目標(biāo)圖形是否為光學(xué)鄰近修正圖形、所述局部分析區(qū)域內(nèi)是否插入有輔助圖形。

10、可選的，對(duì)所述目標(biāo)圖形的形狀進(jìn)行分析的方法包括：獲取各個(gè)所述目標(biāo)圖形的拐角點(diǎn)；當(dāng)所述目標(biāo)圖形的所述拐角點(diǎn)的數(shù)量為4個(gè)，則判斷所述目標(biāo)圖形為矩形；當(dāng)所述目標(biāo)圖形的所述拐角點(diǎn)的數(shù)量大于4個(gè)，則對(duì)所述目標(biāo)圖形進(jìn)行小線段去除處理；在進(jìn)行所述小線段去除處理之后，判斷所述目標(biāo)圖形的形狀。

11、可選的，所述小線段去除處理的方法包括：當(dāng)所述目標(biāo)圖形中相鄰所述拐角點(diǎn)之間由第一坐標(biāo)之差小于第一預(yù)設(shè)值轉(zhuǎn)變?yōu)榈诙鴺?biāo)之差小于第一預(yù)設(shè)值，或者由所述第二坐標(biāo)之差小于第一預(yù)設(shè)值轉(zhuǎn)變?yōu)樗龅谝蛔鴺?biāo)之差小于第一預(yù)設(shè)值時(shí)，則連接首尾兩個(gè)所述拐角點(diǎn)。

12、可選的，在進(jìn)行所述小線段去除處理之后，判斷所述目標(biāo)圖形的形狀的方法包括：在遍歷所述目標(biāo)圖形中所有相鄰所述拐角點(diǎn)之后，獲取所述目標(biāo)圖形的拐角點(diǎn)的數(shù)量；所述目標(biāo)圖形的多邊形數(shù)量與所述拐角點(diǎn)的數(shù)量相同。

13、可選的，所述第一坐標(biāo)之差為：橫坐標(biāo)之差或縱坐標(biāo)之差；所述第二坐標(biāo)之差為：縱坐標(biāo)之差或橫坐標(biāo)之差。

14、可選的，對(duì)所述目標(biāo)圖形的特征尺寸、以及相鄰所述目標(biāo)圖形之間的間距尺寸進(jìn)行分析的方法包括：在所述局部分析區(qū)域內(nèi)選取量測(cè)點(diǎn)；基于所述量測(cè)點(diǎn)形成射線；獲取所述射線與所述局部分析區(qū)域內(nèi)的所有所述目標(biāo)圖形邊線之間的交點(diǎn)數(shù)量；當(dāng)所述交點(diǎn)數(shù)量為奇數(shù)時(shí)則判斷所述量測(cè)點(diǎn)位于所述目標(biāo)圖形的內(nèi)部；當(dāng)所述交點(diǎn)數(shù)量為偶數(shù)時(shí)則判斷所述量測(cè)點(diǎn)位于所述目標(biāo)圖形的外部；當(dāng)判斷所述量測(cè)點(diǎn)在所述目標(biāo)圖形內(nèi)部時(shí)，過(guò)所述量測(cè)點(diǎn)形成沿第一方向或第二方向的第一線段，直至與所述目標(biāo)圖形相對(duì)的邊線產(chǎn)生交點(diǎn)，所述第一方向與所述第二方向垂直，所述第一線段垂直于所述目標(biāo)圖形中產(chǎn)生交點(diǎn)的邊線；將所述第一線段的長(zhǎng)度尺寸作為所述目標(biāo)圖形的長(zhǎng)度特征尺寸或?qū)挾忍卣鞒叽?；?dāng)判斷所述量測(cè)點(diǎn)在所述目標(biāo)圖形外部時(shí)，過(guò)所述量測(cè)點(diǎn)形成沿所述第一方向或所述第二方向的第二線段，直至與相鄰所述目標(biāo)圖形的邊線產(chǎn)生交點(diǎn)，所述第二線段垂直于相鄰所述目標(biāo)圖形中產(chǎn)生交點(diǎn)的邊線；將所述第二線段的長(zhǎng)度尺寸作為相鄰所述目標(biāo)圖形之間的間距尺寸。

15、可選的，對(duì)所述局部分析區(qū)域內(nèi)的若干所述目標(biāo)圖形是否為重復(fù)圖形進(jìn)行分析的方法包括：獲取各個(gè)所述目標(biāo)圖形的拐角點(diǎn)；基于所述目標(biāo)圖形中的各個(gè)所述拐角點(diǎn)，獲取所述目標(biāo)圖形各條邊線的長(zhǎng)度尺寸、以相鄰邊線之間的角度，并依照預(yù)設(shè)排布順序形成特征列表；當(dāng)2個(gè)所述目標(biāo)圖形的所述特征列表完全相同時(shí)，則判斷2個(gè)所述目標(biāo)圖形為重復(fù)性圖形。

16、可選的，對(duì)所述目標(biāo)圖形是否為光學(xué)鄰近修正圖形進(jìn)行分析的方法包括：獲取各個(gè)所述目標(biāo)圖形的拐角點(diǎn)；當(dāng)所述目標(biāo)圖形的所述拐角點(diǎn)的數(shù)量大于4個(gè)，且存在相鄰所述拐角點(diǎn)之間的橫坐標(biāo)之差或縱左邊之差小于第二預(yù)設(shè)值時(shí)，則判斷所述目標(biāo)圖形為光學(xué)鄰近修正圖形。

17、可選的，對(duì)所述局部分析區(qū)域內(nèi)是否插入有輔助圖形進(jìn)行分析的方法包括：獲取各個(gè)所述目標(biāo)圖形的拐角點(diǎn)；當(dāng)所述目標(biāo)圖形的所述拐角點(diǎn)的數(shù)量等于4個(gè)，且存在相鄰所述拐角點(diǎn)之間的橫坐標(biāo)或縱坐標(biāo)之差小于第三預(yù)設(shè)值時(shí)，則判斷所述局部分析區(qū)域內(nèi)插入有所述輔助圖形。

18、相應(yīng)的，本發(fā)明技術(shù)方案中還提供一種存儲(chǔ)介質(zhì)，其上存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)指令，所述計(jì)算機(jī)指令運(yùn)行時(shí)執(zhí)行上述任意一項(xiàng)技術(shù)方案所述方法的步驟。

19、相應(yīng)的，本發(fā)明技術(shù)方案中還提供一種終端，包括存儲(chǔ)器和處理器，所述存儲(chǔ)器上存儲(chǔ)有能夠在所述處理器上運(yùn)行的計(jì)算機(jī)指令，所述處理器運(yùn)行所述計(jì)算機(jī)指令時(shí)執(zhí)行上述任意一項(xiàng)技術(shù)方案所述方法的步驟。

20、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的技術(shù)方案具有以下優(yōu)點(diǎn)：

21、本發(fā)明技術(shù)方案的版圖局部圖形特征的分析方法中，通過(guò)在所述待檢測(cè)版圖中建立所述局部分析區(qū)域，并對(duì)所述局部分析區(qū)域內(nèi)的所述目標(biāo)圖形進(jìn)行自動(dòng)化的不同類型的特征分析，取代了人工分析版圖的過(guò)程，能夠有效提升對(duì)版圖的局部圖形特征分析的效率。

技術(shù)特征：

1.一種版圖局部圖形特征的分析方法，其特征在于，包括：

2.如權(quán)利要求1所述的版圖局部圖形特征的分析方法，其特征在于，在所述待檢測(cè)版圖中獲取局部分析區(qū)域的方法包括：獲取定位點(diǎn)；基于所述定位點(diǎn)建立截取窗口；將所述截取窗口截取的區(qū)域作為所述局部分析區(qū)域。

3.如權(quán)利要求2所述的版圖局部圖形特征的分析方法，其特征在于，所述截取窗口為矩形。

4.如權(quán)利要求3所述的版圖局部圖形特征的分析方法，其特征在于，基于所述定位點(diǎn)建立所述截取窗口的方法包括：獲取沿第一方向的第一截取尺寸；獲取沿第二方向的第二截取尺寸，所述第一方向與所述第二方向垂直；基于所述第一截取尺寸、所述第二截取尺寸和所述定位點(diǎn)建立所述截取窗口；其中，所述定位點(diǎn)為所述截取窗口的中心點(diǎn)，所述第一截取尺寸為所述定位點(diǎn)沿所述第一方向距離所述截取窗口邊長(zhǎng)的間距尺寸，所述第二截取尺寸為所述定位點(diǎn)沿所述第二方向距離所述截取窗口邊長(zhǎng)的間距尺寸。

5.如權(quán)利要求1所述的版圖局部圖形特征的分析方法，其特征在于，所述待檢測(cè)版圖包括：由不同層級(jí)版圖經(jīng)過(guò)打平后的單層版圖，或者由不同層版圖經(jīng)過(guò)合并后的多層版圖。

6.如權(quán)利要求1所述的版圖局部圖形特征的分析方法，其特征在于，不同類型的特征分析包括：幾何特征分析和環(huán)境特征分析。

7.如權(quán)利要求6所述的版圖局部圖形特征的分析方法，其特征在于，所述幾何特征包括：所述目標(biāo)圖形的形狀、所述目標(biāo)圖形的特征尺寸、以及相鄰所述目標(biāo)圖形之間的間距尺寸。

8.如權(quán)利要求6所述的版圖局部圖形特征的分析方法，其特征在于，所述環(huán)境特征分析包括：所述局部分析區(qū)域內(nèi)的若干所述目標(biāo)圖形是否為重復(fù)圖形、所述目標(biāo)圖形是否為光學(xué)鄰近修正圖形、所述局部分析區(qū)域內(nèi)是否插入有輔助圖形。

9.如權(quán)利要求7所述的版圖局部圖形特征的分析方法，其特征在于，對(duì)所述目標(biāo)圖形的形狀進(jìn)行分析的方法包括：獲取各個(gè)所述目標(biāo)圖形的拐角點(diǎn)；

10.如權(quán)利要求9所述的版圖局部圖形特征的分析方法，其特征在于，所述小線段去除處理的方法包括：當(dāng)所述目標(biāo)圖形中相鄰所述拐角點(diǎn)之間由第一坐標(biāo)之差小于第一預(yù)設(shè)值轉(zhuǎn)變?yōu)榈诙鴺?biāo)之差小于第一預(yù)設(shè)值，或者由所述第二坐標(biāo)之差小于第一預(yù)設(shè)值轉(zhuǎn)變?yōu)樗龅谝蛔鴺?biāo)之差小于第一預(yù)設(shè)值時(shí)，則連接首尾兩個(gè)所述拐角點(diǎn)。

11.如權(quán)利要求10所述的版圖局部圖形特征的分析方法，其特征在于，在進(jìn)行所述小線段去除處理之后，判斷所述目標(biāo)圖形的形狀的方法包括：在遍歷所述目標(biāo)圖形中所有相鄰所述拐角點(diǎn)之后，獲取所述目標(biāo)圖形的拐角點(diǎn)的數(shù)量；所述目標(biāo)圖形的多邊形數(shù)量與所述拐角點(diǎn)的數(shù)量相同。

12.如權(quán)利要求10所述的版圖局部圖形特征的分析方法，其特征在于，所述第一坐標(biāo)之差為：橫坐標(biāo)之差或縱坐標(biāo)之差；所述第二坐標(biāo)之差為：縱坐標(biāo)之差或橫坐標(biāo)之差。

13.如權(quán)利要求7所述的版圖局部圖形特征的分析方法，其特征在于，對(duì)所述目標(biāo)圖形的特征尺寸、以及相鄰所述目標(biāo)圖形之間的間距尺寸進(jìn)行分析的方法包括：在所述局部分析區(qū)域內(nèi)選取量測(cè)點(diǎn)；基于所述量測(cè)點(diǎn)形成射線；獲取所述射線與所述局部分析區(qū)域內(nèi)的所有所述目標(biāo)圖形邊線之間的交點(diǎn)數(shù)量；當(dāng)所述交點(diǎn)數(shù)量為奇數(shù)時(shí)則判斷所述量測(cè)點(diǎn)位于所述目標(biāo)圖形的內(nèi)部；當(dāng)所述交點(diǎn)數(shù)量為偶數(shù)時(shí)則判斷所述量測(cè)點(diǎn)位于所述目標(biāo)圖形的外部；當(dāng)判斷所述量測(cè)點(diǎn)在所述目標(biāo)圖形內(nèi)部時(shí)，過(guò)所述量測(cè)點(diǎn)形成沿第一方向或第二方向的第一線段，直至與所述目標(biāo)圖形相對(duì)的邊線產(chǎn)生交點(diǎn)，所述第一方向與所述第二方向垂直，所述第一線段垂直于所述目標(biāo)圖形中產(chǎn)生交點(diǎn)的邊線；將所述第一線段的長(zhǎng)度尺寸作為所述目標(biāo)圖形的長(zhǎng)度特征尺寸或?qū)挾忍卣鞒叽?；?dāng)判斷所述量測(cè)點(diǎn)在所述目標(biāo)圖形外部時(shí)，過(guò)所述量測(cè)點(diǎn)形成沿所述第一方向或所述第二方向的第二線段，直至與相鄰所述目標(biāo)圖形的邊線產(chǎn)生交點(diǎn)，所述第二線段垂直于相鄰所述目標(biāo)圖形中產(chǎn)生交點(diǎn)的邊線；將所述第二線段的長(zhǎng)度尺寸作為相鄰所述目標(biāo)圖形之間的間距尺寸。

14.如權(quán)利要求8所述的版圖局部圖形特征的分析方法，其特征在于，對(duì)所述局部分析區(qū)域內(nèi)的若干所述目標(biāo)圖形是否為重復(fù)圖形進(jìn)行分析的方法包括：獲取各個(gè)所述目標(biāo)圖形的拐角點(diǎn)；基于所述目標(biāo)圖形中的各個(gè)所述拐角點(diǎn)，獲取所述目標(biāo)圖形各條邊線的長(zhǎng)度尺寸、以相鄰邊線之間的角度，并依照預(yù)設(shè)排布順序形成特征列表；當(dāng)2個(gè)所述目標(biāo)圖形的所述特征列表完全相同時(shí)，則判斷2個(gè)所述目標(biāo)圖形為重復(fù)性圖形。

15.如權(quán)利要求8所述的版圖局部圖形特征的分析方法，其特征在于，對(duì)所述目標(biāo)圖形是否為光學(xué)鄰近修正圖形進(jìn)行分析的方法包括：獲取各個(gè)所述目標(biāo)圖形的拐角點(diǎn)；當(dāng)所述目標(biāo)圖形的所述拐角點(diǎn)的數(shù)量大于4個(gè)，且存在相鄰所述拐角點(diǎn)之間的橫坐標(biāo)之差或縱左邊之差小于第二預(yù)設(shè)值時(shí)，則判斷所述目標(biāo)圖形為光學(xué)鄰近修正圖形。

16.如權(quán)利要求8所述的版圖局部圖形特征的分析方法，其特征在于，對(duì)所述局部分析區(qū)域內(nèi)是否插入有輔助圖形進(jìn)行分析的方法包括：獲取各個(gè)所述目標(biāo)圖形的拐角點(diǎn)；當(dāng)所述目標(biāo)圖形的所述拐角點(diǎn)的數(shù)量等于4個(gè)，且存在相鄰所述拐角點(diǎn)之間的橫坐標(biāo)或縱坐標(biāo)之差小于第三預(yù)設(shè)值時(shí)，則判斷所述局部分析區(qū)域內(nèi)插入有所述輔助圖形。

17.一種存儲(chǔ)介質(zhì)，其上存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)指令，其特征在于，所述計(jì)算機(jī)指令運(yùn)行時(shí)執(zhí)行權(quán)利要求1～16任一項(xiàng)所述方法的步驟。

18.一種終端，包括存儲(chǔ)器和處理器，所述存儲(chǔ)器上存儲(chǔ)有能夠在所述處理器上運(yùn)行的計(jì)算機(jī)指令，其特征在于，所述處理器運(yùn)行所述計(jì)算機(jī)指令時(shí)執(zhí)行權(quán)利要求1～16任一項(xiàng)所述方法的步驟。

技術(shù)總結(jié)
一種版圖局部圖形特征的分析方法、存儲(chǔ)介質(zhì)及終端，其中版圖局部圖形特征的分析方法包括：提供待檢測(cè)版圖，所述待檢測(cè)版圖中具有若干待檢測(cè)圖形；在所述待檢測(cè)版圖中獲取局部分析區(qū)域，位于所述局部分析區(qū)域內(nèi)的所述待檢測(cè)圖形為目標(biāo)圖形；對(duì)所述局部分析區(qū)域內(nèi)的若干所述目標(biāo)圖形進(jìn)行不同類型的特征分析，并輸出每種類型的特征分析結(jié)果。通過(guò)在所述待檢測(cè)版圖中建立所述局部分析區(qū)域，并對(duì)所述局部分析區(qū)域內(nèi)的所述目標(biāo)圖形進(jìn)行自動(dòng)化的不同類型的特征分析，取代了人工分析版圖的過(guò)程，能夠有效提升對(duì)版圖的局部圖形特征分析的效率。

技術(shù)研發(fā)人員：牟芝平,任堃,高大為,吳永玉
受保護(hù)的技術(shù)使用者：浙江創(chuàng)芯集成電路有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/26