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一種基于CMOS工藝的高密度自整流器件及其制備方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:40444388

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本發(fā)明涉及半導體,尤其涉及一種基于cmos工藝的高密度自整流器件及其制備方法。背景技術(shù)、在后摩爾時代,集成電路的發(fā)展面臨馮·諾依曼瓶頸問題,這一瓶頸限制了處理器與內(nèi)存之間的數(shù)據(jù)傳輸速度,降低了計算效率。為了解決這一問題,研究人員開始關(guān)注憶阻器(memristor)作為新型非易失性存儲器件的潛力。憶阻器具有可調(diào)的電阻狀態(tài),能夠用于信息存儲和計算,因其高密度和低功耗特性而被視為未來內(nèi)存和計算架構(gòu)的重要組成部分。然而,在大規(guī)模被動陣列中集成憶阻器時,需要自整流器件以避免陣列間的電流串擾,現(xiàn)有自整流器...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。
該類技術(shù)注重原理思路,無完整電路圖,適合研究學習。

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