技術(shù)編號：40442279
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本公開內(nèi)容的包括用于負型顯影的生物基組合物和使用這樣的生物基組合物的方法。更特別地，本公開內(nèi)容考慮了由生物來源或可再生來源合成的非水性顯影劑和漂洗組合物，并且還考慮了采用這樣的生物基顯影劑使用光致抗蝕劑和/或利用所述生物基漂洗劑來進行負型顯影圖案化方法以產(chǎn)生高分辨率負型圖像。背景技術(shù)、實現(xiàn)超過nm節(jié)點的先進光刻技術(shù)需要實現(xiàn)具有終極性能的圖案化材料和工藝，以應(yīng)對固有地對比度有限的曝光工具。成像波長從長期存在的nm?arf光刻(duv)減少至預期的.nm極紫外光刻(extreme?...
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