技術(shù)編號：40406815
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本技術(shù)屬于hjt(異質(zhì)結(jié))硅片配套輔助，具體涉及一種改善hjt返工片微晶殘留的裝置。背景技術(shù)、cvd(化學(xué)氣相沉積)返工片在槽體清洗后表面會(huì)漂浮一層微晶，在將清洗完成后的硅片從槽內(nèi)提起時(shí)，漂浮的微晶會(huì)再次附著在硅片上，對硅片進(jìn)行再次污染，影響后續(xù)硅片加工良率。現(xiàn)目前清洗后漂浮物會(huì)一直聚集在液面，無法消散及排出，亟待對清洗方式進(jìn)行優(yōu)化處理。技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路、本實(shí)用新型的目的在于：提供了一種改善hjt返工片微晶殘留的裝置，解決了清洗槽液面漂浮微晶再次造成污染的問題。、本實(shí)用新型的目的通過下述技術(shù)方...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。