技術(shù)編號(hào):40406111
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本公開(kāi)涉及熱致動(dòng)冷卻系統(tǒng)、設(shè)備和制造方法。背景技術(shù)、光刻設(shè)備是將期望的圖案施加至襯底上(通常施加至襯底的目標(biāo)部分上)的機(jī)器。光刻設(shè)備可以用于例如集成電路(ic)的制造中。在那種情況下,圖案形成裝置(其可以是掩模或掩模版)可以用以產(chǎn)生待形成在正在形成的ic的單層上的電路圖案。這種圖案可以轉(zhuǎn)印至襯底(例如,硅晶片)上的目標(biāo)部分(例如,包括管芯的部分、一個(gè)管芯或若干管芯)上。圖案的轉(zhuǎn)印通常經(jīng)由成像至被設(shè)置在襯底上的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上來(lái)進(jìn)行。通常,單個(gè)襯底將包含被連續(xù)地圖案化的相鄰目標(biāo)部分的網(wǎng)...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。