技術(shù)編號(hào)：40396262
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本公開涉及半導(dǎo)體或光伏材料加工，具體涉及一種反應(yīng)爐。背景技術(shù)、在半導(dǎo)體或光伏材料的加工中，pecvd、lpcvd、apcvd、擴(kuò)散爐等是常見的加工設(shè)備。這些設(shè)備根據(jù)具體的工藝需求，通過調(diào)整反應(yīng)條件、氣體種類和流量等參數(shù)，實(shí)現(xiàn)對(duì)材料性能的精準(zhǔn)調(diào)控。、然而，在傳統(tǒng)的加工設(shè)備中，工藝進(jìn)氣孔較為集中，容易產(chǎn)生相互干擾，導(dǎo)致腔體內(nèi)的氣場分布不均勻。這種不均勻的氣場分布會(huì)直接影響待加工材料上的鍍膜均勻性，進(jìn)而影響材料的性能和使用效果。技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路、有鑒于此，本公開實(shí)施例提供了一種反應(yīng)爐，解決了傳統(tǒng)的加...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。