技術(shù)編號：3803647
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及控制狹縫涂敷機(jī)中的處理液的噴出的技術(shù)，更詳細(xì)地說是涉 及用于進(jìn)行正確控制的測定技術(shù)。背景技術(shù)公知有在液晶用玻璃方形基板、半導(dǎo)體晶片、薄膜液晶用柔性基板、光 掩模用基板、濾色鏡用基板等(以下簡稱為"基板")的表面上涂敷光致抗蝕 劑等處理液的涂敷裝置。作為涂敷裝置，例如有使用具有狹縫狀的噴出部的 狹縫噴嘴進(jìn)行狹縫涂敷的狹縫涂敷機(jī)。在狹縫涂敷機(jī)中，由于涂敷膜厚的偏 差(涂敷不均)成為布線寬度變化的原因，所以涂敷膜厚的控制(均勻性) 是特別重要的要素。狹...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。