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含有機(jī)添加劑的鉭障壁漿液的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):3776582

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本發(fā)明涉及集成電路的制備方法,特別涉及使用于銅金屬噴涂所用的金屬結(jié)構(gòu)的化學(xué)機(jī)械拋光的漿液。銅金屬噴涂結(jié)構(gòu)經(jīng)常是由所謂金屬鑲嵌(Damascene)如附圖說(shuō)明圖1所示的方法予以形成。所謂中間層介電(ILD)的絕緣層隔離多層金屬噴涂結(jié)構(gòu)中的金屬層??砂ǖ讓?及頂端,低介電常數(shù)層6的ILD介電層2具有金屬線將會(huì)嵌入的蝕刻于其中的區(qū)域8。沉積用以防止銅由金屬線擴(kuò)散至介電中的障壁層10。此障壁層通常系包括Ta或Ta化合物。然后通常沉積銅種子層,接著電鍍的銅層14。...
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