技術(shù)編號：3774108
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種絕緣膜形成用聚合物、絕緣膜形成用組合物、絕緣膜及具有該絕 緣膜的電子器件。背景技術(shù)近年來，在電子材料領(lǐng)域中，隨著半導(dǎo)體器件的高集成化、動作的高速化及高性能 化的推進(jìn)，主要由半導(dǎo)體集成電路的布線電阻的增大或布線間的電容的增大所導(dǎo)致的信號 延遲成為大的問題。為了解決該信號延遲問題而使半導(dǎo)體器件的動作更加高速化，有必要 使用低介電常數(shù)材料作為多層布線結(jié)構(gòu)中的絕緣膜。為了降低絕緣膜的介電常數(shù)，主要研究降低材料的極性或降低絕緣膜的密度的方 法。例如，由...
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