技術編號：3762242
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明為一種旋轉式噴頭流量調整裝置，尤指適用于調整噴頭流量的噴頭流量調整裝置。背景技術 在半導體工業(yè)中，晶圓的加工均勻性是非常重要的，且為了達到最好的晶圓加工均勻性所以通常借著改變許多的制程參數(shù)，尤其當晶圓(Wafer)進行化學氣相沉積(CVD)，電漿輔助化學氣相沉積(PECVD)，蝕刻(etch)等制程時，通常藉由噴頭噴出氣體并使氣體與晶圓表面產生反應，且借著改變噴頭的氣體流率、壓力、溫度等以達到晶圓的加工均勻性，并于加工制程時，常為了達到晶圓均勻性的要...
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