技術(shù)編號：3748430
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明是關(guān)于一種光阻涂覆的方法。背景技術(shù)光學(xué)顯影是在硅片或者LCD基板表面的光阻上經(jīng)過曝光與顯影程序，將光罩(Mask)母版上的電子零件與線路圖形(Pattern)以特定波長的光線經(jīng)光罩、透鏡轉(zhuǎn)印到光阻下面的薄膜層或硅片上(此過程稱為圖案轉(zhuǎn)印，Pattern Transfer)，每一層線路即需要一片光罩。光學(xué)顯影主要包含光阻涂覆、烘烤、光罩對準(zhǔn)、曝光及顯影等程序，其中，光阻涂覆的均勻度對其后的程序具重要的影響。為達(dá)到合適的均勻度，現(xiàn)有技術(shù)中有多種光阻涂覆的...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。