專利名稱：光阻涂覆方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是關(guān)于一種光阻涂覆的方法。
背景技術(shù)：
光學(xué)顯影是在硅片或者LCD基板表面的光阻上經(jīng)過曝光與顯影程序，將光罩(Mask)母版上的電子零件與線路圖形(Pattern)以特定波長的光線經(jīng)光罩、透鏡轉(zhuǎn)印到光阻下面的薄膜層或硅片上(此過程稱為圖案轉(zhuǎn)印，Pattern Transfer)，每一層線路即需要一片光罩。光學(xué)顯影主要包含光阻涂覆、烘烤、光罩對準(zhǔn)、曝光及顯影等程序，其中，光阻涂覆的均勻度對其后的程序具重要的影響。為達(dá)到合適的均勻度，現(xiàn)有技術(shù)中有多種光阻涂覆的方法。
一種現(xiàn)有技術(shù)是采用旋涂法(Spin-Coat)，即使用噴嘴將光阻噴至基板上，使光阻擴(kuò)展，然后旋轉(zhuǎn)基板，即可將光阻均勻涂覆至基板上。如1999年10月11日公告的中國臺灣專利第371,780號揭示的一種方法，該方法主要包括以下步驟將作為光阻劑主要成份的溶劑滴到硅片表面；使滴有該溶劑的硅片以其軸為中心而旋轉(zhuǎn)；將前述光阻劑滴到硅片表面上；使滴有該光阻劑的硅片以其軸為中心而旋轉(zhuǎn)；洗凈該硅片背面，同時(shí)除去該硅片周邊的光阻劑；接著，為使已除去周邊光阻劑的硅片干燥而旋轉(zhuǎn)該硅片。該方法制程步驟比較簡單，并且易于得到合適的均勻度，然而使用此方法光阻的使用率僅約5％，大量光阻材料被浪費(fèi)，從而導(dǎo)致制作成本較高。
另一種現(xiàn)有技術(shù)是溝槽旋轉(zhuǎn)法(Slit-Spin)，即首先在基板上刻劃出溝槽，噴涂光阻至基板，利用溝槽使得光阻在基板上充分?jǐn)U展，然后再旋轉(zhuǎn)基板，即可將光阻均勻涂覆至基板上。相較于前一種現(xiàn)有技術(shù)，該方法改善光阻在基板上擴(kuò)展的方式，將光阻使用率提高至30％，然而該使用率仍然較低。
還有一種現(xiàn)有技術(shù)是溝槽法(Slit and Spin-less)，即首先在基板上刻劃出溝槽，噴涂光阻至基板，利用溝槽使得光阻在基板上充分?jǐn)U展，但不需要旋轉(zhuǎn)。相較于前兩種現(xiàn)有技術(shù)，其光阻使用率大幅提高，可接近100％，然而光阻均勻度較差，并且要求溝槽具較高的穩(wěn)定性。

發(fā)明內(nèi)容為解決現(xiàn)有技術(shù)光阻涂覆時(shí)光阻使用率低的技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種同時(shí)具有較高光阻使用率的光阻涂覆方法。
本發(fā)明為解決現(xiàn)有技術(shù)問題而采用的技術(shù)方案是在基板表面上刻劃多條溝槽；利用噴嘴將光阻噴射至基板上；水平震動基板。
相較于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明的光阻涂覆方法使用水平震動基板的方法，在保證一定涂覆均勻度的同時(shí)，獲得較高的光阻使用率。

圖1是本發(fā)明光阻涂覆方法所處理的基板的側(cè)視圖。
圖2是本發(fā)明光阻涂覆方法形成多條溝槽的示意圖。
圖3是本發(fā)明光阻涂覆方法所使用噴嘴的設(shè)置示意圖。
圖4是本發(fā)明光阻涂覆方法噴涂光阻步驟后的基板側(cè)視圖。
圖5是本發(fā)明光阻涂覆方法水平震動步驟后的基板側(cè)視圖具體實(shí)施方式
請參照圖1，是將進(jìn)行光阻涂覆制程的LCD基板，該LCD基板100的形狀是長方體，其材質(zhì)是玻璃或者透明的樹脂材料。該基板100包括一表面110，該表面110上將進(jìn)行光阻涂覆制程。
再請參照圖2，是本發(fā)明光阻涂覆方法的刻劃溝槽步驟后的基板側(cè)視圖。該第一個(gè)步驟是在該基板100的表面110加工出多條構(gòu)槽120，該多條構(gòu)槽120是長條形，并且相互平行設(shè)置，相互之間是連續(xù)設(shè)置，該多條構(gòu)槽120的截面是三角形。
請一并參照圖3及圖4，是本發(fā)明光阻涂覆方法的噴涂光阻步驟的示意圖。噴涂光阻(圖未示)是使用噴嘴200，該多條噴嘴200是設(shè)置在該多條溝槽120相互之間的連接處(未標(biāo)示)，緊貼連接處，并以等距間隔。該多條噴嘴200是以扇形噴射光阻至基板100，噴射光阻過程中不斷上升，以免被噴射至基板100上的光阻所淹沒。光阻被噴至基板100上，經(jīng)過該多條溝槽120擴(kuò)展后，在基板上形成一光阻層300。由于光阻劑較為黏稠，因而該光阻層300具有較低的均勻度。
請參照圖5，是本發(fā)明光阻涂覆方法的第三個(gè)步驟后的基板側(cè)視圖。為改善光阻噴涂程序后基板上的光阻層均勻度較低的問題，將該基板100置于震動機(jī)床(圖未示)中，使該基板100進(jìn)行水平震動。震動的方向可采用與該多條溝槽120平行的方向，也可采用與該多條溝槽120垂直的方向。經(jīng)該水平震動步驟后，該光阻層300可達(dá)到合適的均勻度，由于可控制水平震動的幅度、頻率與時(shí)間，因而也可使光阻不致脫離該基板100，從而可保證較高的光阻使用率。
但是，本發(fā)明光阻涂覆方法還有其他多種實(shí)施方式。例如，本方法也適用于硅片的光阻涂覆；該多條構(gòu)槽也可以是非平行設(shè)置；該多條構(gòu)槽也可以是非連續(xù)設(shè)置，即相互之間可存在間距；該多條構(gòu)槽的截面還可以是其他形狀，如梯形。
權(quán)利要求
1.一種光阻涂覆方法，其包括以下步驟在基板表面上刻劃多條溝槽；利用噴嘴將光阻噴射至基板上；水平震動基板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光阻涂覆方法，其特征在于基板上刻劃的多條溝槽相互平行。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光阻涂覆方法，其特征在于基板上刻劃的多條溝槽是長條形。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光阻涂覆方法，其特征在于基板上刻劃的溝槽的截面是三角形。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光阻涂覆方法，其特征在于基板上刻劃的溝槽的截面是梯形。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光阻涂覆方法，其特征在于基板上刻劃的多條溝槽是連續(xù)設(shè)置。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光阻涂覆方法，其特征在于基板上刻劃的多條溝槽是間隔設(shè)置。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光阻涂覆方法，其特征在于該方法所使用的噴嘴是等距設(shè)置。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光阻涂覆方法，其特征在于噴嘴是以扇形噴射出光阻。
全文摘要
本發(fā)明提供一種光阻涂覆方法，其包括以下步驟在基板表面刻劃多條溝槽；利用噴嘴將光阻噴射至基板上；水平震動基板。本發(fā)明的方法可在保證一定涂覆均勻度的同時(shí)，獲得較高的光阻使用率。
文檔編號B05C11/08GK1526482SQ03113899
公開日2004年9月8日 申請日期2003年3月8日 優(yōu)先權(quán)日2003年3月8日
發(fā)明者陳永昌, 彭家鵬, 賴建廷 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 群創(chuàng)光電股份有限公司