技術(shù)編號(hào)：3738537
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。倍半硅氧烷樹脂相關(guān)申請(qǐng)的交叉參考無背景技術(shù)抗反射涂層(ARC)是在顯微光刻法中使用的主要材料之一。認(rèn)為典型的ARC材料 提供至少一種下述優(yōu)點(diǎn)通過減少擺動(dòng)曲線，控制線寬；降低駐波的減少，平面化，最小化 反射切口。當(dāng)在微電子工業(yè)中，構(gòu)圖特征尺寸收縮到低于65nm時(shí)，材料工業(yè)面臨新材料的 巨大挑戰(zhàn)。它們之一尤其是193nm抗反射涂層(ARC)，因?yàn)?93nm光致抗蝕劑具有非常薄的 層，以便得到合適深度的聚焦和分辨率和沒有提供充足的光吸收和耐蝕刻性。對(duì)于193nm...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。