技術(shù)編號(hào)：3727336
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種有機(jī)抗反射涂布材料，該涂布材料可穩(wěn)定地生成適用于64M、256M、1G、4G和16G DRAM半導(dǎo)體器件的超細(xì)圖案。更具體地說，本發(fā)明涉及一種有機(jī)抗反射涂料，該涂料含有在亞微平版印刷術(shù)所用的波長(zhǎng)處具有強(qiáng)吸收的發(fā)色團(tuán)。在采用248nm KrF、193nm ArF或157nm F2激光光源的亞微平版印刷方法中，所述的抗反射材料層可以防止光從半導(dǎo)體芯片的表面或下層反射，也可消除光刻膠層中的駐波。本發(fā)明也涉及含有這種材料的抗反射涂料組合物、由該組合物...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。