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用于形成基于二氧化硅的層的組合物和基于二氧化硅的層的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:3714188

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本發(fā)明公開了一種用于形成基于二氧化硅的層的組合物和基于二氧化硅的層。該組合物包含具有20,000至160,000的重均分子量的含硅聚合物以及溶劑。另外,本發(fā)明還公開了一種用于制造基于二氧化硅的層的方法。專利說明用于形成基于二氧化枯的層的組合物和基于二氧化枯的層[000。 相關(guān)申請的引用[0002] 本申請要求分別于2013年10月1日和2014年8月25日在韓國知識產(chǎn)權(quán)局提交 的韓國專利申請?zhí)?0-2013-0117498和10-2014-0110915的...
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