技術(shù)編號:3704908
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及聚合物超細(xì)微粒的制備方法,特別是涉及一種。背景技術(shù)與傳統(tǒng)工藝相比,采用超臨界流體制備超細(xì)顆粒具有晶粒尺寸小、分布窄和產(chǎn)品無溶劑殘留等優(yōu)點(diǎn),因而具有更廣泛的用途。目前已提出的幾種不同的超臨界流體沉積技術(shù),主要有以下兩種,即超臨界溶液快速膨脹過程(rapid expansion from supercritical solution,RESS)和氣體抗溶劑結(jié)晶過程(gas anti-solvent recrystallization,GAS,也稱氣體...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。