技術編號：3672137
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及光刻領域。更具體地說，本發(fā)明涉及含有縮醛鍵的光致抗蝕劑聚合物以及其在光刻(lithographic)光致抗蝕劑組合物中的用途，尤其是在化學增幅光致抗蝕劑中的用途。背景技術化學增幅光致抗蝕劑由于在MSnm和更短的波長下具有更好的曝光速度 (photo-speed)，同時在亞0. 25微米的范圍中提供可接受的圖像空間分辨率，所以已取代斷鏈光致抗蝕劑(chain-scission photoresists)。但是，對于高級圖案化節(jié)點(advanced ...
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