技術編號：3651600
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及適用于超微平版印刷工藝中的抗反射聚合物，包含該聚合物的組合物和涉及制備該種組合物的方法。更具體地說，本發(fā)明涉及可用于抗反射涂層中以在超微平版印刷工藝中降低或阻止光的背反射和消除光致抗蝕層中的駐波。本發(fā)明也涉及一種含有所述聚合物的組合物以及使用該種組合物的方法。在大多數(shù)超微平版印刷工藝中，由于涂于基材上的底層的光學性能，和/或涂于其上的感光(即光致抗蝕)膜的厚度變化，因此通常出現(xiàn)駐波和光波的反射刻痕。另外，通常的超微平版印刷工藝苦于受到來自低層的衍...
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