技術(shù)編號:3644507
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種阻尼材料,特別是一種采用高分子材料制造的雙組份雙層復(fù)合阻尼材料。背景技術(shù)目前,市場上公知的聲波阻尼材料都為采用高分子材料制造的單組份單層復(fù)合阻尼材料,聲波傳播只能在同一密度的媒質(zhì)中產(chǎn)生反射,不能有效錯開同一媒質(zhì)的吻合谷效應(yīng),聲波能量衰減效果不很理想。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的是提供一種采用高分子材料制造的雙組份雙層復(fù)合阻尼材料。本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是采用高分子材料(BIIR和EPDM)制造的雙組份雙層復(fù)合阻尼材料構(gòu)成,第一層材料與第...
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