技術(shù)編號(hào)：3623844
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及新穎的聚合物，該聚合物特別用于微光刻領(lǐng)域，和當(dāng)用于在半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中將正性和負(fù)性圖案成像的光刻膠時(shí)是特別有用的。該新穎聚合物包括衍生自具有氰基官能度的烯屬不飽和單體和不飽和環(huán)狀單體的單元。聚合物在深紫外(uv)區(qū)域中具有高透明度，和當(dāng)用作光刻膠組合物時(shí)，特別用于在小于200納米(nm)下的曝光。背景技術(shù)聚合物以許多不同的方式用于形成薄涂層。在光刻膠中，聚合物用作將圖案成像的粘結(jié)劑樹脂。將包括聚合物和光活性化合物的光刻膠涂敷在硅襯底上和典型地采用紫...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。