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技術(shù)編號：3610345

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本發(fā)明涉及，屬于聚合物近紅外發(fā)光材料合成領(lǐng)域。該方法采用含有烯烴雙鍵和環(huán)氧基團的含氟活性單體,通過與含鉺配合物、甲基丙烯酸環(huán)氧丙酯進行三元共聚制備出含氟含鉺的聚合物近紅外發(fā)光材料，該材料實現(xiàn)了鉺離子與聚合物在分子水平上的復(fù)合，避免了由于摻雜不均引起的分相使稀土配合物濃度不均造成的熒光猝滅。通過利用直接紫外寫入技術(shù)，對旋涂得到的聚合物薄膜采用光刻顯影的方式，制作成了條形結(jié)構(gòu)的聚合物光波導(dǎo)放大器微圖案。此技術(shù)與傳統(tǒng)工藝相比，無需蒸鍍金屬膜層及離子刻蝕等復(fù)制工序...
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