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有機(jī)金屬絡(luò)合物及其作為金屬薄膜沉積前體的應(yīng)用的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):3534626

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背景技術(shù)厚度為50?;蚋俚慕饘俸徒饘傺趸锔弑P伪∧ぴ诎ㄎ㈦娮訉W(xué)和磁信息存儲(chǔ)的電子器件的制造中越來(lái)越引起人們的注意。這些薄膜通常通過(guò)化學(xué)氣相沉積(CVD)和原子層沉積(ALD)法生產(chǎn)。隨著組件器件(即晶體管)尺寸的減小以及組件器件密度的增大和電路的圖案化,就相當(dāng)?shù)匦枰赏ㄟ^(guò)CVD或ALD法制造這類薄膜的新型有機(jī)金屬前體化合物。熱穩(wěn)定的金屬脒化物已經(jīng)被選用作生產(chǎn)過(guò)渡金屬的高保形薄膜的候選對(duì)象。其可用于生產(chǎn)邏輯和存儲(chǔ)器件。用于這種金屬脒化物中的示范性金屬包...
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