技術(shù)編號(hào):3520023
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種。背景技術(shù)待用于半導(dǎo)體的光致抗蝕劑組合物通常包含作為酸生成劑的鹽。US2007/0122750A提到由下式表示的鹽作為酸生成劑。權(quán)利要求1.2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鹽,其中式(I)的C-OH部分由式(U-l)表示,3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鹽,其中X1表示-0-*1、-NR2-*1、-O-CO-*1、-0-CH2-*1 或-NR2-^-*1,其中V表示與W的結(jié)合位置。4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的鹽,其中Z+是三芳基锍陽(yáng)離子。5.一種光致抗蝕劑組...
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