技術(shù)編號：3514421
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本申請請求基于35U. S. C . § 119(3)提出的申請日為2010年11月15日的美國臨時申請No. 61/458,015的優(yōu)先權(quán)，其全部內(nèi)容作為參考納入本申請。本發(fā)明涉及新的內(nèi)酯類單體。特別是，本發(fā)明涉及包含內(nèi)酯的光致酸發(fā)生劑化合物(“PAG”)和包含這種PAG化合物的光致抗蝕劑組合物。并且，本發(fā)明涉及含有內(nèi)酯重復單元的樹脂和包含該內(nèi)酯樹脂的光致抗蝕劑組合物。背景技術(shù)光致抗蝕劑是將圖像轉(zhuǎn)移到基底的光敏感性薄膜。它們形成負性和正性圖象。將光致抗...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。