技術(shù)編號(hào)：3434300
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及高純氣體的制取和相應(yīng)設(shè)備，特別是涉及以工業(yè)純99.9%的氬氣 凈化后制取99.9999%高純氬氣的裝置和工藝方法。背景技術(shù)高純氬6N (99.9999%)主要應(yīng)用在電子、冶金、半導(dǎo)體和儀器分析等產(chǎn)業(yè)部 門和科研中。例如6N以上的氬氣是Si、 GaAs、 CdTe等單晶的生產(chǎn)和直讀光譜儀 的工作必不可少的條件。目前制取高純氬的方法有以下三種1，深冷分餾法，該法設(shè)備大而且復(fù)雜， 只適用于空分制氣，不適用于終端凈化，例如中國(guó)專利(CN1362608A)...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。