技術(shù)編號(hào)：3433703
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及使氟氣(F2氣體)和氨氣(NH3氣體)在稀釋氣體的存在 下、在氣相中、無(wú)催化劑條件下反應(yīng)，從而高效率地制造三氟化氮(NF3) 的方法以及該法所使用的裝置。背景技術(shù)NF3被用于例如半導(dǎo)體器件制造工藝中的干蝕刻用氣體和清洗氣體 等。作為其制造方法，通常可以大致分為化學(xué)法和電解法。作為化學(xué)法， 已知有例如(1)向熔融酸式氟化銨中噴吹F2氣體和NH3氣體的方法(參 照特公昭55-8926號(hào)公報(bào)(專利文獻(xiàn)1) ) 、 ( 2 )使F2氣體和NH3氣體 直接...
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