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技術(shù)編號：3431879

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背景技術(shù)目前，在半導(dǎo)體制造中對NF3的需求量大且在增加。早期的生產(chǎn)NF3的工藝包括通過F2的銨離子直接氟化，在攪拌反應(yīng)容器中使氣體F2與液體(熔融地)氟化氫銨(AAF)接觸。早期的工藝操作以在反應(yīng)液體中HF與氨(ammonia)的摩爾比為2.0比2.5(熔融比)和在氟化氫銨熔點(diǎn)以上的溫度下運(yùn)行，NH4HF2的熔點(diǎn)為127℃。后期用于生產(chǎn)NF3的工藝由于使用更高的HF/NH3熔融比，影響了氟化氫銨的直接氟化。下面的專利和文章描述生產(chǎn)和提純NF3的工藝。US4...
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