技術(shù)編號：3424366
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型是應(yīng)用于半導(dǎo)體制程中刻蝕部^H十對多種化學(xué)藥液再回收利用的 技術(shù)，具體為一種多種化學(xué)品藥液分離、重復(fù)使用裝置。背景技術(shù)以槽式刻蝕為代表的傳統(tǒng)濕法刻蝕，刻蝕精度很難控制，由于溶劑微粒的沾 污而導(dǎo)致高的缺陷水平，不能用于大直徑小特征的晶圓加工。而單片刻蝕可以避 免溶劑微粒的沾污，卻會產(chǎn)生大量的化學(xué)廢液，在化學(xué)品回收利用方面是個(gè)空白。實(shí)用新型內(nèi)容為實(shí)現(xiàn)化學(xué)品的重復(fù)使用，本實(shí)用新型的目的在于提供一種多種化學(xué)品藥液 分離、重復(fù)使用裝置，可將多種化學(xué)藥液分離...
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