技術編號：3416018
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及，特別涉及一種低氣體含量、高純、高致密度、尺寸精確、高表面質量的錳合金濺射靶材及其制造方法，可以形成高質量薄膜的錳合金濺射靶材。背景技術隨著信息化社會的發(fā)展，信息記錄變得越來越重要，且趨向于大容量，高密度，小體積，高穩(wěn)定性的方向發(fā)展。目前主流信息記錄裝置為計算機硬盤，硬盤磁記錄目前也想更高記錄密度和更小體積發(fā)展，最先進的商用計算機單個硬盤的存儲量已經(jīng)達到了 Tb數(shù)量級。作為再生磁頭的材料需要越來越先進，由于常規(guī)的感應磁頭已經(jīng)達到了使用極限，先進的...
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