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技術(shù)編號：3404982

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背景技術(shù)更具體地說，本發(fā)明涉及氣化器和氣化供給裝置，它們用于各以所需的濃度和流速以高效率供應(yīng)液體CVD材料或者液體CVD材料的溶液或固體CVD材料在溶劑中的溶液，而不會引起CVD材料的質(zhì)量變差。氣態(tài)CVD-材料例如SiH4、NH3、PH3和B2H6迄今為止已用作通過CVD設(shè)備生產(chǎn)膜材料的原材料。隨著三維設(shè)備和多層電線的發(fā)展，對絕緣膜的平滑度的需要不斷增加，所以使用液體CVD-材料，它較不易產(chǎn)生諸如空穴的缺陷，并能形成高質(zhì)量的薄膜。例如，使用四乙氧基硅{Si...
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