技術(shù)編號：3402709
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及。背景技術(shù) 最近開始進(jìn)入實(shí)際使用的高臨界電流氧化物超導(dǎo)材料期望能被應(yīng)用于例如聚變反應(yīng)堆、磁懸浮火車、粒子加速器和核磁共振成像(MRI)設(shè)備，并且一些材料已經(jīng)進(jìn)入實(shí)際使用。主要的氧化物超導(dǎo)體是鉍基和釔基超導(dǎo)體，并且具有良好磁性特性的釔基超導(dǎo)體作為在不久的將來將會(huì)進(jìn)入實(shí)際使用的材料而吸收了大量的關(guān)注。制備釔基超導(dǎo)薄膜的方法實(shí)例是脈沖激光沉積(PLD)、液相外延(LPE)、電子束(EB)加工和有機(jī)金屬沉積(MOD)。在這些方法中，非真空、低成本的MOD...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲(chǔ)備，不適合論文引用。