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沉積腔的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):3379672

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本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體制造技術(shù),尤其涉及一種沉積腔。 背景技術(shù)物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition, PVD)技術(shù)是在真空條件下,采用物理方法,將材料源(固體或液體)表面氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子,并通過(guò)低壓氣體(或等離子體)過(guò)程,在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)。自電離等離子體(self ionized plasma)是一種物理氣相沉積方法,圖1所示為采用自電離等離子體技術(shù)的沉積腔的剖視圖,該沉積腔包括加熱器...
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