技術(shù)編號：3376657
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種成膜裝置，特別是涉及一種等離子成膜裝置。背景技術(shù)目前，由于等離子成膜裝置采用的等離子噴涂技術(shù)具有超高溫特性，便于進(jìn)行高熔點材料的噴涂；而且等離子成膜裝置具有噴涂粒子的速度高，涂層致密，粘結(jié)強度高等特點，因此電子裝置等產(chǎn)品的成膜工藝大量采用等離子噴涂技術(shù)。成膜過程中，需根據(jù)所要形成的薄膜的要求(如薄膜的致密度、厚度等)，控制等離子成膜裝置所發(fā)射的等離子射流區(qū)域的形狀?，F(xiàn)有的等離子成膜裝置是通過調(diào)節(jié)等離子成膜裝置內(nèi)的線圈電流來控制等離子射流區(qū)域形...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。