技術(shù)編號(hào)：3368351
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種真空鍍膜，尤其涉及一種濺鍍裝置。 背景技術(shù)濺鍍裝置一般包括一個(gè)圓環(huán)料架、一個(gè)圓環(huán)基座及多個(gè)料桿。所述圓環(huán)料架與所述圓環(huán)基座同軸設(shè)置。多個(gè)料桿沿圓環(huán)基座的軸向設(shè)置，沿圓環(huán)基座的圓周方向排布，并連接圓環(huán)料架及圓環(huán)基座。鍍膜時(shí)，靶材離子從料桿的外部射向料桿而附著于待鍍工件的表面。然而，圓環(huán)料架通常不能在不同的鍍膜機(jī)中使用。具體的，圓環(huán)料架的尺寸可能大于某些型號(hào)的鍍膜機(jī)的尺寸，導(dǎo)致圓環(huán)料架無(wú)法收容于鍍膜機(jī)內(nèi)。為此，廠(chǎng)商需根據(jù)不同的鍍膜機(jī)的尺寸，開(kāi)模生...
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