技術(shù)編號(hào):3366947
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種鎂合金涂層表面負(fù)載TiO2光催化薄膜的制備方法。其制備過(guò)程采用的是陰極電沉積方法,為改善該薄膜在光降解過(guò)程中的耐蝕性能,本發(fā)明采用兩種方法分別對(duì)鎂合金基體進(jìn)行處理以增加防護(hù)涂層,具體做法如下一是在鎂合金基體上直接化學(xué)鍍鎳再負(fù)載Ti02。二是在鎂合金基體上先微弧氧化處理再化學(xué)鍍鎳之后負(fù)載Ti02。最后選用光催化降解亞甲基藍(lán)溶液對(duì)TiO2薄膜活性進(jìn)行評(píng)價(jià)。背景技術(shù)TiO2是一種重要的功能材料,尤其它優(yōu)良的光電化學(xué)特性,可用來(lái)催化降解水和大氣中的有...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。