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鍍膜裝置與其蒸發(fā)源裝置技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:3364203

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,及其蒸發(fā)源容器的制作方法本發(fā)明涉及鍍膜裝置和蒸發(fā)源裝置,尤其是關(guān)于適合制造有機EL器件等的鍍膜 裝置、蒸發(fā)源裝置,及其蒸發(fā)源容器。背景技術(shù)作為制造有機EL器件用的主要的方法有真空蒸鍍法。利用這種真空蒸鍍法制造 有機EL器件時,尤其是、在玻璃板等被蒸鍍基板的表面形成以電極夾持的發(fā)光材料層(EL 層)的鍍膜裝置中,廣泛使用了在真空室內(nèi),將配置在與該被蒸鍍基板相對的位置,使其位 置互相移動并進行加熱而氣化了的氣體狀(或蒸汽狀)的EL材料蒸鍍于基板表面的鍍膜直ο...
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