技術編號：3358733
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。腐蝕腔裝置及氣相腐蝕設備本實用新型涉及一種腐蝕腔裝置及氣相腐蝕設備，特別涉及一種對硅片表面進行 腐蝕處理的腐蝕腔裝置及氣相腐蝕設備。背景技術隨著微電子技術和光電子技術的發(fā)展，越來越需要把不同的器件集成在一起。目 前較為常用的，是在完成電路制作的硅片的背面做上一層金屬，以達到該電路散熱和與其 他電子器件連接的目的。硅片表面容易被氧化而生成二氧化硅(Si02)，而影響硅片與金屬 的接觸，進而影響與其他器件的連接性能，最終將影響產(chǎn)品整體的工作性能?，F(xiàn)有技術中， ...
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