技術(shù)編號(hào):3346935
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于太陽(yáng)能集熱器,特別涉及利用磁控反應(yīng)濺射真空鍍膜技術(shù)制備的太陽(yáng)光譜選擇性吸收涂層。美國(guó)專利US339.484涉及到的選擇性吸收涂層是在玻璃上先濺射沉積一層紅外高反射的銅膜,然后沉積不銹鋼一碳化物為吸收層,該涂層太陽(yáng)吸收比(AM2)α≈0.92,發(fā)射率ε≈0.05(100℃)。中國(guó)發(fā)明專利CN1056159A涉及的是一種AlNxOy選擇性吸收涂層,制備時(shí)以單個(gè)的鋁材作陰極,使用氬氣、氮?dú)狻⒀鯕馊N氣體,該涂層太陽(yáng)吸收比α≈0.90~0.94,紅外發(fā)射...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。