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太陽(yáng)光譜選擇性吸收涂層的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):3346935

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本發(fā)明屬于太陽(yáng)能集熱器,特別涉及利用磁控反應(yīng)濺射真空鍍膜技術(shù)制備的太陽(yáng)光譜選擇性吸收涂層。美國(guó)專利US339.484涉及到的選擇性吸收涂層是在玻璃上先濺射沉積一層紅外高反射的銅膜,然后沉積不銹鋼一碳化物為吸收層,該涂層太陽(yáng)吸收比(AM2)α≈0.92,發(fā)射率ε≈0.05(100℃)。中國(guó)發(fā)明專利CN1056159A涉及的是一種AlNxOy選擇性吸收涂層,制備時(shí)以單個(gè)的鋁材作陰極,使用氬氣、氮?dú)狻⒀鯕馊N氣體,該涂層太陽(yáng)吸收比α≈0.90~0.94,紅外發(fā)射...
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