技術(shù)編號：3344383
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及具有均勻微細(xì)的組織、等離子體穩(wěn)定、膜的均勻性(uniformity)優(yōu)良的高純度鉭濺射靶。另外，本申請發(fā)明的高純度鉭，含有(添加有)鉬并且根據(jù)需要含有 (添加有)鈮，但是這些元素的添加量少，因此，在本申請說明書中統(tǒng)稱為“高純度鉭”。背景技術(shù)近年來，在電子工業(yè)領(lǐng)域、耐腐蝕性材料或裝飾領(lǐng)域、催化劑領(lǐng)域、切削/研磨材料或耐磨損性材料的制作等多個領(lǐng)域中，使用用于形成金屬或陶瓷材料等的被膜的濺射。濺射法本身在上述領(lǐng)域為眾所周知的方法，但是，最近，特別是在電...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。