技術(shù)編號：3343076
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種，該基板具有平的、光滑的、基本上無缺陷的表面，一般是合成石英玻璃或硅基板，在現(xiàn)代技術(shù)中用作光掩模、納米壓印模具和液晶濾色片。背景技術(shù)在將在精密設(shè)備例如半導(dǎo)體集成電路等中引入的組件的制造中，經(jīng)常使用例如光刻法或納米壓印法等的現(xiàn)代技術(shù)。在這種技術(shù)的使用之中，重要的是基板在表面上具有盡可能少的缺陷。例如，如果光刻法中用作曝光模型的光掩模存在缺陷，就有形成有缺陷的圖案的危險，因為缺陷會直接地轉(zhuǎn)移到圖案上。為了適應(yīng)在最近的EUV印刷技術(shù)中存在的圖案超小...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。