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技術(shù)編號：3329024

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本實用新型公開一種類鉆石薄膜連續(xù)型鍍膜裝置，包括依次設(shè)置的呈真空狀態(tài)的進(jìn)架室、DLC鍍膜室以及出架室，還包括貫穿各室的軌道，軌道上設(shè)置用于裝夾待鍍膜基材的可在軌道上勻速移動的基材架，DLC鍍膜室為可同時實現(xiàn)PVD磁控濺射和CVD氣相沉積的復(fù)合鍍膜腔室，其內(nèi)設(shè)置用于鍍制DLC膜的第一工作靶。本方案通過將PVD和CVD鍍膜方式結(jié)合應(yīng)用于DLC膜鍍制，同時設(shè)置軌道和基材架，可以大面積連續(xù)的對待鍍膜基材表面鍍制DLC膜，與PECVD單體鍍膜設(shè)備、激光及離子束沉積設(shè)...
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