技術(shù)編號：3325629
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明公開了提供了一種低壓氣相淀積Si3N4，該方法包括a.向反應(yīng)室內(nèi)預(yù)通入一定量的NH3；b.向反應(yīng)室內(nèi)通入流量比為31的NH3和SiCl2H2，開始淀積反應(yīng)；c.通過壓力調(diào)節(jié)讓反應(yīng)室內(nèi)的壓力基本保持在200毫托。 申請人意外的發(fā)現(xiàn)，通入NH3和SiCl2H2流量比在21～51間，現(xiàn)有設(shè)備均能保持反應(yīng)室內(nèi)壓力穩(wěn)定，而不會對設(shè)備造成很大的負擔，也不需要對現(xiàn)有設(shè)備進行改進。而且，在發(fā)明人進行的多次試驗中，當NH3和SiCl2H2流量比為31時，反應(yīng)更加充分...
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