技術(shù)編號(hào)：3320319
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明公開了一種制作工藝連續(xù)、制作成本較低且便于制作的。本發(fā)明所述的用于激光器的全介質(zhì)反射膜采用折射率為2.5-4.5的硅化物膜層制作成高折射率膜層，采用折射率為1.4-2.1的硅化物膜層制作成低折射率膜層，高折射率膜層和低折射率膜層都是采用硅化物膜層，不同的硅化物膜層只需通過氣相摻雜的方法向反應(yīng)腔中通入摻雜氣體實(shí)現(xiàn)摻雜以得到折射率不同的硅化物膜層，該反射膜在結(jié)構(gòu)上只采用了硅化物作為膜層材料，采用這種結(jié)構(gòu)的反射膜在制備全程都采用成熟的PECVD技術(shù)一次成膜...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。