技術(shù)編號：3305465
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型公開了一種真空蒸發(fā)鍍膜裝置，包括真空室，所述真空室內(nèi)設(shè)有蒸發(fā)源和基片，所述基片的被鍍一面在蒸發(fā)源之上，其中，所述基片固定在可水平往復(fù)運(yùn)動(dòng)的金屬板上；所述真空室的頂部開設(shè)有冷卻氣氛入口,所述冷卻氣氛入口的一側(cè)通過調(diào)節(jié)閥與冷卻氣體氣源相連接，另一側(cè)伸入真空室并設(shè)置有導(dǎo)氣裝置。本實(shí)用新型提供的真空蒸發(fā)鍍膜裝置，將基片固定在可水平往復(fù)運(yùn)動(dòng)的金屬板上，從而保證鍍膜的均勻性，有效避免散熱不均勻或冷卻過快導(dǎo)致基片損壞，提高產(chǎn)品合格率；通過在真空室的頂部開設(shè)冷卻...
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