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反應(yīng)腔室及其射頻帶保護(hù)裝置制造方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):3304387

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本實(shí)用新型提供的反應(yīng)腔室及其射頻帶保護(hù)裝置,該晶圓腔體射頻帶保護(hù)裝置,設(shè)置于晶圓腔體的底部和加熱器之間,包括左、右支架,所述左、右支架均包括一個(gè)較高位置的第一頂板和一個(gè)較低位置的第二頂板,所述第二頂板的相對(duì)側(cè)對(duì)應(yīng)設(shè)有一凹槽,所述左、右支架組裝時(shí)形成一個(gè)空心的無(wú)底的臺(tái)階體且所述凹槽形成供射頻帶穿越的通孔,能夠?qū)⑸漕l帶和帶夾保護(hù)起來(lái),防止射頻帶和帶夾受到等離子體、高溫以及腐蝕性氣體侵蝕,一方面,可以使得晶圓腔體中腐蝕性的等離子體無(wú)法直接接觸射頻金屬連接帶和帶夾...
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