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適于制造以氧化鈦為主成分的薄膜的燒結(jié)體濺射靶的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:3289264

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本發(fā)明涉及一種以氧化鈦為主成分的薄膜,其特征在于,包含Ti、Ag和O成分,Ti為29.6原子%以上且34.0原子%以下,Ag為0.003原子%以上且7.4原子%以下,余量由氧構(gòu)成,氧與金屬的比O/(2Ti+0.5Ag)為0.97以上。本發(fā)明的目的在于得到高折射率、并且具有低消光系數(shù)的以氧化鈦為主成分的薄膜、適于制造該薄膜的以氧化鈦為主成分的燒結(jié)體濺射靶以及以氧化鈦為主成分的薄膜的制造方法。本發(fā)明的目的還在于得到同時具有優(yōu)良的透射性、反射率的下降少、可以作為...
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