技術(shù)編號：3287621
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明的層疊體（1），具有基材（2）、在基材（2）的外表面的至少一部分上形成的膜狀或片狀的底涂層（3、103）、以及在底涂層（3、103）的厚度方向的兩個面中的與基材（2）接觸的面的相反側(cè)面上形成的原子層沉積膜（4），原子層沉積膜（4）的前驅(qū)體的至少一部分與底涂層（3、103）結(jié)合，原子層沉積膜（4）形成為覆蓋底涂層（3、103）的膜狀。專利說明[0001]本發(fā)明涉及在基材的外表面形成有原子層沉積膜的層疊體、由該層疊體形成的阻氣膜以及它們的制造方法。[00...
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