技術(shù)編號：3287551
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。目的在于，在真空蒸鍍裝置中，在使用了多個蒸發(fā)源時，不易發(fā)生在被蒸鍍體上形成的蒸鍍膜的不均，能夠形成所希望的膜厚的蒸鍍膜。真空蒸鍍裝置（1）具備多個蒸發(fā)源（3）；將蒸發(fā)源（3）及被蒸鍍體（2）之間的空間包圍、在被蒸鍍體側(cè)具有開口面（41）的筒狀體（4）。并且，具備在筒狀體（4）的內(nèi)部配置的分隔板（7）。分隔板（7）具有開口部（70），開口部（70）在以重心（P）為中心的直徑（D）的圓周范圍內(nèi)設(shè)有至少1個以上，直徑（D）是分隔板（7）的外周上的2點間距離中的最...
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